目次
総論 Cat‐CVD法の誕生、期待とその課題(Cat‐CVD法の誕生
Cat‐CVD膜の特徴 ほか)
第1章 基礎編(低温成膜の物理とCat‐CVD―ﾌｨﾗﾒﾝﾄ表面での化学反応の評価
気相中のﾗｼﾞｶﾙ種の定量 ほか)
第2章 Cat‐CVD装置(大型Cat‐CVD装置
簡易型Cat‐CVD装置 ほか)
第3章 応用編(SiN―LSIﾄﾗﾝｼﾞｽﾀｰへの応用
ﾚｼﾞｽﾄｴｯﾁﾝｸﾞ―水素ﾗｼﾞｶﾙによるﾚｼﾞｽﾄ除去 ほか)
第4章 材料各論(ｱﾓﾙﾌｧｽおよび微結晶Si
ｴﾋﾟﾀｷｼｬﾙSiC ほか)
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